A copy of this work was available on the public web and has been preserved in the Wayback Machine. The capture dates from 2022; you can also visit the original URL.
The file type is application/pdf
.
Влияние имплантации ионов Ва+ на эмиссионные свойства вольфрама
2022
«Узбекский физический журнал»
В работе с использованием методов оже-электронной спектроскопии и спектроскопииистинно-вторичных электронов (ИВЭ) изучены состав и эмиссионные свойства W, покрытого монослоем Ва и имплантированного ионами Ва+ и щелочных металлов Na+,K+ , Cs+ с энергией 0.5–8 кэВ при дозе насыщения D=Dнас=(6–8)×1016 см–2. Установлено, что при одинаковых измененияхработы выходаeφ значение коэффициента вторичнойэлектронной эмиссии (ВЭЭ) в случае ионной имплантации ~1.5 раза больше, чем вслучае адсорбции атомов Ва.
doi:10.52304/.v24i4.382
fatcat:uhgy7u44tjam7im4ukhtcqec3e