Влияние имплантации ионов Ва+ на эмиссионные свойства вольфрама

З.А. Исаханов, Ф.Я. Худайкулов, Д.А. Ташмухамедова, Б.Е. Умирзаков
2022 «Узбекский физический журнал»  
В работе с использованием методов оже-электронной спектроскопии и спектроскопииистинно-вторичных электронов (ИВЭ) изучены состав и эмиссионные свойства W, покрытого монослоем Ва и имплантированного ионами Ва+ и щелочных металлов Na+,K+ , Cs+ с энергией 0.5–8 кэВ при дозе насыщения D=Dнас=(6–8)×1016 см–2. Установлено, что при одинаковых измененияхработы выходаeφ значение коэффициента вторичнойэлектронной эмиссии (ВЭЭ) в случае ионной имплантации ~1.5 раза больше, чем вслучае адсорбции атомов Ва.
more » ... Установлено, что в области малых Ер (энергия первичныхэлектронов) при высоких концентрациях Ва уровни О3, О2, О дают существенный вкладв число ИВЭ. Кроме того, наличие таких уровней увеличивает эффективность неупругоотраженных электронов (НОЭ). Анализ данных коэффициентов ВЭЭ напыленных иионно-легированных систем в случае щелочных металлов приводит к аналогичнымрезультатам.
doi:10.52304/.v24i4.382 fatcat:uhgy7u44tjam7im4ukhtcqec3e