湿式エッチング(II)合成石英基板フォトマスクへの湿式エッチングの適用
Wet Etching of Synthetic Quartz Substrate for Photomask Application

Hiroshi MOHRI
2004 Journal of The Surface Finishing Society of Japan  
doi:10.4139/sfj.55.535 fatcat:tuee2mt7ovcfnmxj76jm6u5ve4