STUDIES OF SELF-DIFFUSION IN POTASSIUM FLUORIDE BY NUCLEAR MAGNETIC RESONANCE TECHNIQUES

I. M. HOODLESS, J. H. STRANGE, L. E. WYLDE
1973 Le Journal de Physique Colloques  
RtLsumC. -La mesure des temps de relaxation TI et TI" de resonance magnktique nucleaire a Ct C effectuee dans KF pur et dope par Ca' . entre 470 et 1090 K. Le processus responsable de la relaxation est I'auto-diffusion. A partir de I'influence de la temperaturz sur T I et TI" I'enthalpie de migration du cation est trouvee Cgale a 0,83 eV et celle de I'anion a 1,35 eV. La comparaison des frequences de saut de K . et F calculCs par rmn et conductivitk montre que la diffusion extrinseque a lieu
more » ... lacunes cationiques libres et par complexes impurete-lacune. La dernikre contribue au processus de relaxation ; les lacunes libres et les lacunes associees ont des vitesses de diffusion semblables. A plus haute temperature, il apparait une contribution apprkciable des lacunes anioniques. Abstract. -Nuclear magnetic resonance relaxation time measurements of TI and TI, have been made on pure and Ca"-doped single crystals of K F over the temperature range 470 to 1090 K. The process responsible for relaxation is self-diffusion. From the temperature dependence of TI and TI", the cation migration enthalpy is found to be 0.83eVand theanionmigration enthalpy is found to be 1.35 eV. Comparison of the jump frequencies for potassium and fluoride ions calculated from the relaxation times and from conductivity measurements shows that extrinsic diffusion takes place via cation single vacancies and impurity-vacancy conlplexes. The latter contribute to the relaxation process, indicating that, in KF, free and complexed vacancies have similar diffusion rates. At higher temperatures there is a significant contribution from anion vacancies to the diffusion process.
doi:10.1051/jphyscol:1973903 fatcat:kt4su6mci5ddpijlfowaqj33s4