28aBF-4 トポロジカル絶縁体における電気化学的銅インターカレーションと化学ポテンシャル制御(28aBF トポロジカル絶縁体(実験),領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
28aBF-4 Fermi Level Tuning of 3D Topological Insulator by Electrochemical Cu-Intercalation

K. Saito, H. Sakai, Y. Tokura, S. Ishiwata
2014 Meeting Abstracts of the Physical Society of Japan (Nihon Butsuri Gakkai koen gaiyoshu)  
doi:10.11316/jpsgaiyo.69.1.4.0_705_4 fatcat:xgzln7jpgffrjabdqidb6ttmlm