Cu and Ni Catalysts Supported on γ-Al2O3and SiO2Assessed in Glycerol Steam Reforming Reaction

Vivian V. Thyssen, Thaisa A. Maia, Elisabete M. Assaf
2014 Journal of the Brazilian Chemical Society  
Catalisadores de Cu e Ni suportados em g-Al 2 O 3 e SiO 2 comerciais foram estudados frente a reforma a vapor de glicerol. Os catalisadores foram preparados pelo método da impregnação e caracterizados por espectrometria de emissão atômica por plasma acoplado indutivamente, fisissorção de nitrogênio, redução a temperatura programada com H 2 e difração de raios X. A caracterização mostrou a presença de espécies com diferentes interações com os suportes: CuO, NiO e NiAl 2 O 4 . Os testes
more » ... s foram realizados a 600 °C e, para o catalisador que apresentou o melhor desempenho, foram realizadas reações a 500 °C e a 700 °C. Os testes mostraram que a presença de NiAl 2 O 4 desfavorece a deposição de carbono, provavelmente devido à maior dispersão do Ni na superfície do catalisador. Observou-se também que o catalisador NiSi foi o que apresentou a maior atividade para a formação de H 2 , porém este apresentou a maior deposição de carbono ao longo da reação. Cu and Ni catalysts supported on commercial g-Al 2 O 3 and SiO 2 were tested in the glycerol steam reforming. The catalysts were prepared by the impregnation method and characterized by inductively-coupled plasma atomic emission spectrometry, nitrogen physisorption, temperature programmed reduction with H 2 and X-ray diffraction. The characterization indicated several catalytic species in the samples interacting differently with the supports: NiO, CuO and NiAl 2 O 4 . The catalytic tests were performed at 600 °C, and the best catalyst was also tested at 500 °C and 700 °C. The results showed that the presence of NiAl 2 O 4 did not favor the deposition of carbon during the reaction, probably due to the greater dispersion of Ni on the catalyst surface. It was also observed that, although NiSi was the most active catalyst for H 2 production, it also showed the highest carbon deposit during the reaction.
doi:10.5935/0103-5053.20140209 fatcat:kc4o3njmkrdffbjs577asqo7ti