Solution photochemistry of poly(dialkylsilanes): a new class of photoresists

J. Michl, J. W. Downing, T. Karatsu, A. J. McKinley, G. Poggi, G. M. Wallraff, R. Sooriyakumaran, R. D. Miller
1988 Pure and Applied Chemistry  
G a b r i e l l a P o g g i * , G r e g o r y M. W a l l r a f f * , R a t n a s a b a p a t h y S o o r i y a k u m a r a n O and R o b e r t D. Miller' * C e n t e r f o r S t r u c t u r e a n d R e a c t i v i t y , D e p a r t m e n t o f C h e m i s t r y , The U n i v e r s i t y o f T e x a s a t A u s t i n , T e x a s 78712-1167; O I B M R e s e a r c h L a b o r a t o r i e s , Almaden R e s e a r c h C e n t e r , S a n J o s e , CA 95120-6099 ABSTRACT p o l y s i l a n e s r e p r
more » ... l a n e s r e p r e s e n t a new c l a s s o f p o l y m e r i c m a t e r i a l s o f c o n s i d e r a b l e t h e o r e t i c a l a n d p r a c t i c a l i n t e r e s t . A l t h o u g h f o r m a l l y s a t u r a t e d , t h e y a b s o r b i n t h e n e a r U V a n d u n d e r g o r a p i d p h o t o d e g r a d a t i o n . A f t e r a r e v i e w o f t h e p r e s e n t u n d e r s t a n d i n g o f t h e e l e c t r o n i c s t r u c t u r e o f p o l y ( d i a l k y l s i 1 a n e s ) a s a f u n c t i o n o f b a c k b o n e c o n f o r m a t i o n , we s u m m a r i z e t h e i r p h o t o p h y s i c s a n d d e s c r i b e r e c e n t a d v a n c e s i n t h e u n d e r s t a n d i n g o f t h e i r s o l u t i o n p h o t o c h e m i s t r y .
doi:10.1351/pac198860070959 fatcat:omu7w4dqsbhdpdhkg33heqsc3q