Замена туннельных переходов в структурах на основе InP на каналы проводимости

А.Е. Маричев, В.С. Эполетов, А.С. Власов
2021 ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ  
В настоящее время, наиболее эффективные фотоэлементы изготавливаются на основе каскадных гетероструктур. В таких приборах фотоактивные p−n-переходы, работающие в разных спектральных диапазонах, соединяются последовательно туннельными переходами с предельно высокими уровнями легирования [1,2]. При достаточно высокой плотности излучения, генерируемый фототок может превысить пиковый ток туннельных переходов, что ведет к увеличению сопротивления всей структуры и падению эффективности работы прибора [3].
doi:10.34077/rcsp2021-122 fatcat:xj5zshsdjrexvjbaga5tzabx6u