XPS spectral shift from negative charged a-Si1-xCx:H films on a quartz glass substrate
負に帯電した石英ガラス基板上のa‐Si1−xCx:H薄膜におけるXPSスペクトルのシフト

Yoshiko SUZUKI, Takato NAKAMURA, Nobuo SAITO, Yoichiro NAKANISHI, Goro SHIMAOKA
1988 Shinku  
doi:10.3131/jvsj.31.402 fatcat:73imenrwkvgkdocy75rzeyfuxq