RésumB : Les objectifs du présent travail sont de deux ordres : d'abord obtenir le rapport de MRG, AIUR, le plus élevé dans des multicouches ColCu élaborées à partir du procédé inhabituel de pulvérisation par diode radiofréquence (RF). En second, analyser les corrélations entre la MRG d'une part et les textures et nigosités interfaciales déduites des diffractions X aux petits et grands angles et de la microscopie à force atomique (MFA) d'autre part. A cet effet, nous avons cherché à induire

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... érentes structures interfaciales en modifiant les paramètres de pulvérisation (pression du gaz pulvérisant P k ) ce qui, par ailleurs, a permis de définir les conditions optimales de dépôt pour l'obtention d'une MRG élevée. L'influence de l'épaisseur ko du film Co a été étudiée pour une épaisseur du fiim de Cu = 9A correspondant au premier maximum de la dépendance oscillatoire avec tcU du rapport de MRG. De ces résultats, nous concluons que le pararnktre pertinent est la nigosité interfaciale qui induit un effet important à la fois sur la MRG et sur la résistivité des super-réseaux. Un changement de pente de ~5 -l en fonction de tZco est attribué à une augmentation de l'effet de rugosité quand t h décroît de l'échelle mésoscopique (tcO> 25A) vers l'échelle nanoscopique (tco< 25A).