Reçu le 16 mai 1984, révisé le 22 octobre, accepté le 16 novembre 1984 ) Résumé. 2014 Les poly(parachlorométhylstyrène) et poly(parabromostyrène) présentent des propriétés lithographiques intéressantes sous irradiation électronique. Une sensibilité élevée, associée à de bonnes propriétés de résistance à la gravure plasma ainsi qu'à une bonne résolution en font des matériaux de choix dans le cadre de la microlithographie à haute performance. Abstract. 2014 Poly(parachloromethylstyrene) and

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... arabromostyrene) are shown to have a desirable combination of properties, inducting high sensitivity, high dry etch resistance, and high resolution. As a consequence, there are very attractive candidates for high performance electron beam lithography.